Les lasers ultrarapides sont particulièrement sensibles à l’effet de lentille thermique, où la chaleur entraîne une déformation ou un gradient d’indice de réfraction du milieu de gain ou de l’optique intracavité. Cela peut réduire les performances, voire empêcher le verrouillage de mode pour produire un faisceau pulsé. Grâce aux progrès réalisés dans les miroirs intracavité hautement dispersifs par UltraFast Innovations (UFI), partenaire d’Edmund Optics, on dispose désormais d’optiques dont les effets thermiques sont négligeables.
Les miroirs standard en stock pour les lasers ultrarapides de 1 030 nm présentent des effets thermiques négligeables, une dispersion de retard de groupe hautement négative pour la compression des impulsions et une réflexion minimale de >99,5% de la polarisation P sur une bande passante de 50 nm. Des miroirs personnalisés sont également disponibles sur demande.
Pour en savoir plus sur la façon dont les miroirs hautement dispersifs avec une lentille thermique minimisée peuvent améliorer les systèmes laser de haute puissance, consultez le site https://www.edmundoptics.fr/knowledge-center/trending-in-optics/minimizing-thermal-lensing-in-ultrafast-systems/.
Edmund Optics® (EO), est l’un des principaux fabricants et distributeurs au monde d’optiques et de technologies d’imagerie et photonique sur les marchés de technologie R&D, de l’électronique, des semi-conducteurs, de sécurité, pharmaceutiques et biomédicaux. EO possède l’un des plus gros stocks au monde de composants optiques. Vous pouvez demander un devis ou passer votre commande par téléphone au +33 (0)8 20 20 75 55, à l’aide du catalogue ou par le biais de notre site internet www.edmundoptics.fr. Vous pouvez également nous contacter à l’adresse sales@edmundoptics.fr
A propos d’UFI :
UltraFast Innovations(UFI) est une spin-off de la Ludwig-Maximilians-Universität de Munich et de l’Institut Max Planck d’Optique Quantique. UFI est un fabricant de premier plan d’optiques de conception complexe, d’optiques diélectriques pour les applications laser et de structures multicouches diélectriques/métalliques pour les applications XUV/rayons X mous. En combinant des sources cohérentes à large bande avec une technologie dispersive unique, UFI offre également la génération et la mesure des impulsions les plus courtes dans les gammes femto- (UV-VIS-IR) et attosecondes (XUV/rayons X doux).
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