Das Lasersystem ist für den Einsatz sowohl im industriellen als auch im wissenschaftlichen Bereich vorgesehen. Der FemtoLux erlaubt die Variation der Pulslänge zwischen 300 fs und 5 ps. Durch die Auswahl zwischen den beiden unterschiedlichen Wellenlängen erweitern sich die Möglichkeiten bei Anwendungen wie der Multiphotonen-Polymerisation, der Herstellung von Faser-Bragg-Gittern, dem Ritzen („Scribing“) von Silizium und Saphir, dem Markieren von transparenten Materialien und der nichtlineare Mikroskopie.

Bei der Entwicklung wurde besonderer Wert auf die Bereitstellung hoher Pulsenergie (bis zu 10 µJ bei 1030 nm im Burst Mode) bei guter Strahlqualität (M²<1,1; Polarisationsgrad 1000:1) gelegt. Daraus resultiert eine für Faserlaser-Systeme hohe Konversionseffizienz von 1030 nm zu 515 nm von über 50%.

Die dem Lasersystem zugrundeliegende Fasertechnologie erlaubt eine Vielzahl an einstellbaren Laserparametern und Kontrollfunktionen, wie z.B. einen breiten Bereich möglicher Pulswiederholraten (10 kHz – 5 MHz). Auch individuelles Pulse Gating bis zu 10 MHz oder die Einstellung der Pulsamplituden in Echtzeit sowie die Kontrolle des „Pulse Chirps“ mit positivem oder negativem Verlauf sind möglich.

Dank der hervorragenden Effizienz („Wall-Plug-Efficiency“) und des intelligenten passiven Wärmemanagements zeichnet sich das Lasersystem zudem durch einen besonders niedrigen Stromverbrauch von weniger als 60 W im Vollbetrieb und entsprechend niedriger Abwärme aus.

Besuchen Sie uns auf der LEF in Fürth am 26. – 27. Februar. Wir beraten Sie gerne bei der Umsetzung Ihres individuellen Projekts.